PVD
【Physical Vapor Deposition】
03.11.12更新
読み ：
ピーブイディー
分野 ：
ICチップ等の立体構造を形成する金属薄膜の生成法の一つ。「物理気相成長法」と訳される。
高真空中で、アルミニウムなどの金属の円盤に高エネルギーの原子(アルゴンやそのイオン)をぶつけて、玉突きの要領で金属原子を吹き飛ばし、その金属原子を表面に層状に付着させるという手法。形成された薄膜層をリソグラフィとエッチングで微細加工するという操作を何度も繰り返すことによって、何層もの薄膜から構成されるトランジスタなどができる。
